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产品系列
品牌:恩科优(N&Q)
型号:NXQ800-6
产地:美国
恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q8000系列光刻机是以自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多**企业、研发中心、研究所和高校采用,并成为他们光刻系统的**;
二、技术参数:
1、芯片尺寸:5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片(支持对不规则碎片的特殊卡盘设计);
2、曝光波长:350nm-450nm(其它波长可选配);
3、汞灯功率:350W/500W(其它功率可选配);
4、分辨率:优于0.5um;
5、曝光模式:支持接近式曝光,各种接触式(真空接触、软接触、硬接触等)曝光;
6、出射光强范围:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm;
7、支持恒定光强或恒定功率模式;
8、曝光时间:0.1~999.9s;
9、对准精度:双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器,对准精度可达到0.4微米内;
10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器);
11、光强均匀性Uniformity:
<±1% over 2”区域;
<±2% over 4”区域;
<±3% over 6”区域;
12、双面光刻:具备背面红外对准(IR BSA)和光学背面对准(OBS BSA),双面对准精度≤2μm;
13、电源:高灵敏度光强可控电源。
可选型号:
NXQ400-6
NXQ400-8
NXQ800-6
NXQ8006 Sapphire
NXQ800-8
三、产品特点:
可选支持单面对准和双面对准设计;
高清晰彩色双CCD镜头采用***的分裂视场显微镜镜头(基于无限远修正的CCD镜头设计);双头高清全彩物镜(单视场或分裂视场可供用户灵活选择);
高清彩色双显示屏;
全新气动轴承导轨设计,高精准,低磨损,无需售后维护的;
具有自动执行楔形误差补偿,并在找平后自动定位功能;
操作简易,具有支持多操作员同台使用的友好操作界面;
操控手柄调控模式的独特设计;
采用LED穿透物镜照明技术,具有超强对准亮度;
采用基于无限远修正的显微镜镜头架构;
抗衍射反射的高效光学光路设计;
带安全保护功能的温度和气流传感器;
全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度;
设备稳定性,耐用性超高;
产品相关关键字: 恩科优光刻机 紫外曝光机 掩膜曝光机 掩膜对准曝光系统 全自动光刻机 |