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产品描述
FR-Scanner 扫描型光学膜厚仪主要由以下系统组成: A)光学光源装置 小型低功率混合式光源 本系统混合了白炽灯和LED灯,*终形成光谱范围360nm- 1100nm;该光源系统通过微处理控制,光源平均寿命逾10000小时; 集成小型光谱仪,光谱范围360-1020nm,分辨精度 3648像素CCD 和 16位 A/D 分辨精度. 集成式反射探针,6组透射光探针(200um),1组反射光探针,探针嵌入光源头,可修整位置,确保探针无弯曲操作; 光源功率:3W; B)超快扫描系统,平面坐标内,可进行625次测量/分钟 (8’’ wafer) 或500次测量/分钟(300mm wafer). 全速扫描时,扫描仪的功率消耗不超过200W; 样品处理台:样品处理尺寸可达300mm. 可满足所有半导体工艺要求的晶圆尺寸。手动调节测量高度可达25mm;配有USB通讯接口,功率:100 - 230V 115W. C) FR-Monitor膜厚测试软件系统, 可精确计算如下参数: 1)单一或堆积膜层的厚度; 2)静态或动态模式下,单一膜层的折射率;本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库,可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率,透射率和反射率的测量,还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱,一次使用授权,即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。 D) 参考样片: a) 经校准过的反射标准硅片; b) 经校准过的带有SiO2/Si 特征区域的样片; E) 附件 |
可定制适用于半导体工艺的任何尺寸的晶圆片(2”, 3”, 4”, 5”, 6”, 200mm, 300mm)